Pós à base de MCrAlY para pulverização atmosférica por plasma (APS)
Amperit® MCrAlY powders
Amperit 413.001 | Ni 22Cr 10Al 1Y | 45/22 µm
Tamanho da partícula: 45/22 µm
Química: Ni 22Cr 10Al 1Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 413.003 | Ni 22Cr 10Al 1Y | 45/5 µm
Tamanho da partícula: 45/5 µm
Química: Ni 22Cr 10Al 1Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 413.006 | Ni 22Cr 10Al 1Y | 125/45 µm
Tamanho da partícula: 125/45 µm
Química: Ni 22Cr 10Al 1Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 415.001 | Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y | 45/22 µm
Tamanho da partícula: 45/22 µm
Química: Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 415.002 | Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y | 90/45 µm
Tamanho da partícula: 90/45 µm
Química: Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 415.006 | Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y | 125/45 µm
Tamanho da partícula: 125/45 µm
Química: Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 415.072 | Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y | 38/10 µm
Tamanho da partícula: 38/10 µm
Química: Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização a frio, HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 415.079 | Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y | 90/53 µm
Tamanho da partícula: 90/53 µm
Química: Co 32Ni 21Cr 8Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 405.001 | Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si | 45/22 µm
Tamanho da partícula: 45/22 µm
Química: Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 405.002 | Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si | 90/45 µm
Tamanho da partícula: 90/45 µm
Química: Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 405.006 | Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si | 125/45 µm
Tamanho da partícula: 125/45 µm
Química: Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 405.072 | Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si | 38/10 µm
Tamanho da partícula: 38/10 µm
Química: Ni 22Co 17Cr 12.5Al 0.6Y 0.2Hf 0.4Si
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 410.001 | Ni 23Co 17Cr 12.5Al 0.5Y | 45/22 µm
Tamanho da partícula: 45/22 µm
Química: Ni 23Co 17Cr 12.5Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização a frio, HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 410.074 | Ni 23Co 17Cr 12.5Al 0.5Y | 45/15 µm
Tamanho da partícula: 45/15 µm
Química: Ni 23Co 17Cr 12.5Al 0.5Y
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: Pulverização a frio, HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 421.001 | Ni 18Cr 10Co 6.5Al 6Ta 2Re 0.3Y 1Si 0.5Hf | 45/22 µm
Tamanho da partícula: 45/22 µm
Química: Ni 18Cr 10Co 6.5Al 6Ta 2Re 0.3Y 1Si 0.5Hf
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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Amperit 421.087 | Ni 18Cr 10Co 6.5Al 6Ta 2Re 0.3Y 1Si 0.5Hf | 38/15 µm
Tamanho da partícula: 38/15 µm
Química: Ni 18Cr 10Co 6.5Al 6Ta 2Re 0.3Y 1Si 0.5Hf
Tipo de pó: Atomizado a gás
Ideal para técnicas de deposição: HVOF, Pulverização atmosférica por plasma (APS), VPS/LPPS
Observações:
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