粉末溶接用ニッケル系粉末
Surfit®ニッケル (Ni) 系粉末
Surfit 1015-00 | Ni <0.06C 2Si 1.1B 0.5Fe 20Cu | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.06C 2Si 1.1B 0.5Fe 20Cu
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1020-00 | Ni <0.06C 2.3Si 1.4B 0.4Fe | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.06C 2.3Si 1.4B 0.4Fe
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1021-10 | Ni <0.05C 2Si 0.7B 3Cr 2P | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.05C 2Si 0.7B 3Cr 2P
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1121-10 | Ni <0.05C 2Si 0.7B 3Cr 2P | 71/20 µm
粒度: 71/20 µm
化学成分: Ni <0.05C 2Si 0.7B 3Cr 2P
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1023-00 | Ni <0.06C 2.5Si 1.6B | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.06C 2.5Si 1.6B
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1025-40 | Ni <0.06C 2.7Si 1.8B | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.06C 2.7Si 1.8B
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1031-10 | Ni <0.05C 2.2Si 0.9B 3Cr 2.2P | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni <0.05C 2.2Si 0.9B 3Cr 2.2P
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1035-40 | Ni 0.32C 3.7Si 1.2B 3Fe 7Cr | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.32C 3.7Si 1.2B 3Fe 7Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1135-40 | Ni 0.32C 3.7Si 1.2B 3Fe 7Cr | 71/20 µm
粒度: 71/20 µm
化学成分: Ni 0.32C 3.7Si 1.2B 3Fe 7Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1036-40 | Ni 0.15C 2.8Si 1.2B 4.5Cr 2.5Mo 1.9P | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.15C 2.8Si 1.2B 4.5Cr 2.5Mo 1.9P
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1136-55 | Ni 0.15C 2.8Si 1.2B 4.5Cr 2.5Mo 2.1P | 71/20 µm
粒度: 71/20 µm
化学成分: Ni 0.15C 2.8Si 1.2B 4.5Cr 2.5Mo 2.1P
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1038-40 | Ni <0.07C 3Si 2.3B <0.8Fe | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分:Ni <0.07C 3Si 2.3B <0.8Fe
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1040-00 | Ni 0.25C 3.5Si 1.6B 2.5Fe 7.5Cr | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.25C 3.5Si 1.6B 2.5Fe 7.5Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1045-00 | Ni 0.35C 3.6Si 1.9B 2.7Fe 9Cr | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.35C 3.6Si 1.9B 2.7Fe 9Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1050-00 | Ni 0.45C 3.8Si 2.2B 2.9Fe 11Cr | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.45C 3.8Si 2.2B 2.9Fe 11Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1055-20 | Ni 0.55C 4Si 3.4B 2.7Fe 16Cr 3Mo 3Cu | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.55C 4Si 3.4B 2.7Fe 16Cr 3Mo 3Cu
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 1060-00 | Ni 0.75C 4.3Si 3.2B 3.8Fe 14.8Cr | 106/20 µm
粒度: 106/20 µm
化学成分: Ni 0.75C 4.3Si 3.2B 3.8Fe 14.8Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
備考:
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Surfit 602P | Ni 0.65C 4.2Si 2.9B 4.3Fe 13.1Cr | -150 メッシュ
粒度:-150 メッシュ
化学成分: Ni 0.65C 4.2Si 2.9B 4.3Fe 13.1Cr
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術:
備考:
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Surfit 1623-05 | Ni 0.03C 2.5Si 1.6B 0.35Fe | 53/20 µm
粒度: 53/20 µm
化学成分: Ni 0.03C 2.5Si 1.6B 0.35Fe
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体溶接
Surfit® Ni 自溶性合金 + カーバイド混合
Höganäs は、ニッケル自溶性(SF)合金とタングステン・カーバイドの幅広い種類のSurfit混合物粉末を提供します。
ニッケル自溶性合金の幅広いポートフォリオと、さまざまなタングステンカーバイドを組み合わせることで、用途の要件に合わせて調合できます。
- ニッケル自溶性合金
- Amperweld® タングステンカーバイド
- Amperweld CTC - キャストタングステンカーバイド
- Amperweld SCTC - 球状タングステンカーバイド
- Amperweld MTC - Macroline タングステンカーバイド
- Amperit® タングステンカーバイドコバルト
- Amperit 519 WC-Co 88-12
- Amperit 526 WC-Co 83-17
用途に合ったSurfit混合物粉末は、 Höganäs 営業担当者にお問い合わせください。
粒度: -
化学成分: -
粉末タイプ: 混合
通常使用される成膜技術:フレーム溶射,HVOF,レーザークラッディング,粉体プラズマアーク溶接(PTA),粉末溶接
Surfit® 硬質相粉末
Surfit® Ni 自溶性合金 + カーバイド混合
Höganäs は、ニッケル自溶性(SF)合金とタングステン・カーバイドの幅広い種類のSurfit混合物粉末を提供します。
ニッケル自溶性合金の幅広いポートフォリオと、さまざまなタングステンカーバイドを組み合わせることで、用途の要件に合わせて調合できます。
- ニッケル自溶性合金
- Amperweld® タングステンカーバイド
- Amperweld CTC - キャストタングステンカーバイド
- Amperweld SCTC - 球状タングステンカーバイド
- Amperweld MTC - Macroline タングステンカーバイド
- Amperit® タングステンカーバイドコバルト
- Amperit 519 WC-Co 88-12
- Amperit 526 WC-Co 83-17
用途に合ったSurfit混合物粉末は、 Höganäs 営業担当者にお問い合わせください。
粒度: -
化学成分: -
粉末タイプ: 混合
通常使用される成膜技術:フレーム溶射,HVOF,レーザークラッディング,粉体プラズマアーク溶接(PTA),粉末溶接
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