粉体プラズマ溶接(PTA)用コバルト系粉末
Surfit® コバルト(Co)系粉末
Surfit 2528-00 | Co 0.25C 0.9Si 0.5Fe 27Cr 2.5Ni 0.7Mn 5.5Mo | 150/53 µm
粒度:150/53 μm
化学成分:Co 0.25C 0.9Si 0.5Fe 27Cr 2.5Ni 0.7Mn 5.5Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2537-00 | Co 1.2C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 1.5Ni 4.6W | 150/53 µm
粒度:150/53 μm
化学成分:Co 1.2C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 1.5Ni 4.6W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2540-00 | Co 1.7C 1.1Si 1.1Fe 26Cr 22.5Ni 12W | 150/53 µm
粒度:150/53 μm
化学成分: Co 1.7C 1.1Si 1.1Fe 26Cr 22.5Ni 12W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2537-10 | Co 1.3C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 0.4Mn 1.5Ni 4.2W | 150/53 µm
粒度:150/53 μm
化学成分: Co 1.3C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 0.4Mn 1.5Ni 4.2W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2541-00 | Co 1.4C 1.2Si 0.7Fe 28.5Cr <2Ni 8W | 150/53 µm
粒度:150/53 μm
化学成分:Co 1.4C 1.2Si 0.7Fe 28.5Cr <2Ni 8W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2541-10 | Co 1.85C 1.5Si <1.5Fe 30.5Cr <1Ni 8.5W | 150/53 µm
粒度: 150/53 µm
化学成分: Co 1.85C 1.5Si <1.5Fe 30.5Cr <1Ni 8.5W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2548-00 | Co 2.3C 1.2Si 30Cr 1Fe 13W | 150/53 µm
粒度: 150/53 µm
化学成分: Co 2.3C 1.2Si 30Cr 1Fe 13W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2728-00 | Co 0.25C 0.9Si 0.5Fe 27Cr 2.5Ni 0.7Mn 5.5Mo | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分:Co 0.25C 0.9Si 0.5Fe 27Cr 2.5Ni 0.7Mn 5.5Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2737-00 | Co 1.2C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 1.5Ni 4.6W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分:Co 1.2C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 1.5Ni 4.6W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2737-10 | Co 1.3C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 0.4Mn 1.5Ni 4.2W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分: Co 1.3C 1Si 1.5Fe 28.5Cr 0.4Mn 1.5Ni 4.2W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術 : 粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2740-30 | Co 1.9C 1.1Si 1Fe 26Cr 22.5Ni 12.5W| 212/63 µm
Particle size: 212/63 µm
Chemistry: Co 1.9C 1.1Si 1Fe 26Cr 22.5Ni 12.5W
Powder type: Gas atomised
Typical deposition techniques: Plasma transferred arc (PTA)
Remarks:
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Surfit 2740-00 | Co 1.7C 1.1Si 1.1Fe 26Cr 22.5Ni 12W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分: Co 1.7C 1.1Si 1.1Fe 26Cr 22.5Ni 12W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2741-00 | Co 1.4C 1.2Si 0.7Fe 28.5Cr <2Ni 8W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分:Co 1.4C 1.2Si 0.7Fe 28.5Cr <2Ni 8W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2741-10 | Co 1.85C 1.5Si <1.5Fe 30.5Cr <1Ni 8.5W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分: Co 1.85C 1.5Si <1.5Fe 30.5Cr <1Ni 8.5W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit 2748-00 | Co 2.3C 1.2Si 30Cr 1Fe 13W | 212/63 µm
粒度: 212/63 µm
化学成分: Co 2.3C 1.2Si 30Cr 1Fe 13W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit ST 156 | Co 1.6C 1.1Si 27.5Cr 1.8Ni <1Mo 4W | 150/45 µm
粒度: 150/45 µm
化学成分: Co 1.6C 1.1Si 27.5Cr 1.8Ni <1Mo 4W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit HB 400 | Co <0.05C 2.8Si 0.8Fe 9.7Cr 0.8Ni 29.5Mo | 150/53µm
粒度: 150/53 µm
化学成分:Co <0.05C 2.8Si 0.8Fe 9.7Cr 0.8Ni 29.5Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit HB 400 | Co <0.05C 2.8Si 0.8Fe 9.7Cr 0.8Ni 29.5Mo | 150/63µm
粒度: 150/63 µm
化学成分:Co <0.05C 2.8Si 0.8Fe 9.7Cr 0.8Ni 29.5Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit HGMET LFE | Co <0.1C 0.3Si 0.7Fe 27Cr 9.5Ni 5Mo 0.8Mn 2W | 150/53 µm
粒度: 150/53 µm
化学成分:Co <0.1C 0.3Si 0.7Fe 27Cr 9.5Ni 5Mo 0.8Mn 2W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:レーザークラッディング法、粉体プラズマアーク溶接(PTA)
備考:
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Surfit HB 800 | Co <0.08C 3.4Si <1.5Fe 18Cr <1.5Ni 29Mo | 150/53 µm
粒度: 150/53 µm
化学成分: Co <0.08C 3.4Si <1.5Fe 18Cr <1.5Ni 29Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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Surfit HB 800 | Co <0.08C 3.4Si <1.5Fe 18Cr <1.5Ni 29Mo | 210/63 µm
粒度: 210/63 µm
化学成分: Co <0.08C 3.4Si <1.5Fe 18Cr <1.5Ni 29Mo
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術:粉体プラズマ溶接(PTA)
備考:
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