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フレーム溶射用ニッケル系粉末

Höganäs フレーム溶射技術用ニッケル系金属粉。

Amperit® ニッケル (Ni) 系粉末粉

ニッケル系（NiCr）溶射用粉末

粒度：90/45 μm
化学成分: Ni 20Cr
粉末タイプ: 水アトマイズ法
施工方法: 大気プラズマ溶射(APS)、火炎溶射

     
 

備考:

  • 耐酸化性、耐摩耗性
  • 優れた被削性
  • 修理、ボンドコート、腐食防止
  
     

 

ニッケル系（NiCr）溶射用粉末

粒度：90/45 μm
化学成分: Ni 20Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
施工方法 : 大気プラズマ溶射（APS）、火炎溶射

     
 

備考:

  • Amperit 250 の球状の代替品
  • より良い流動性
  
     

 

ニッケル系（NiAl）溶射用粉末

粒度：90/45 μm
化学成分: Ni 5Al
粉末タイプ: 水アトマイズ法
施工方法: 大気プラズマ溶射(APS)、火炎溶射

     
 

備考:

  • 耐酸化性、耐摩耗性
  • 優れた被削性
  
     

 

ニッケル系（NiAl）溶射用粉末

粒度：90/45 μm
化学成分: Ni 5Al
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
施工方法 : 大気プラズマ溶射（APS）、火炎溶射

     
 

備考:

  • Amperit 280 の球状の代替品
  • より良い流動性
  
     

 

Surfit®ニッケル (Ni) 系粉末

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni <0.06C 2Si 1.1B 0.5Fe 20Cu
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ:
    15 HRC（FS）
    210 HV（FS）

  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.15C 3.1Si 1.6B 1.8Fe 4.8Cr 
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ：データなし


  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.32C 3.7Si 1.2B 3Fe 7Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ:
    35 HRC（FS）
    360 HV（FS）


  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分: Ni 0.25C 3.5Si 1.6B 2.5Fe 7.5Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度:
    38 HRC (FS)
    380 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.25C 3.5Si 1.6B 2.5Fe 7.5Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度:
    38 HRC (FS)
    380 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分: Ni 0.35C 3.6Si 1.9B 2.7Fe 9Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度:
    44 HRC (FS)
    450 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.35C 3.6Si 1.9B 2.7Fe 9Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度:
    44 HRC (FS)
    450 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分: Ni 0.45C 3.8Si 2.2B 2.9Fe 11Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    51 HRC (FS)
    570 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.45C 3.8Si 2.2B 2.9Fe 11Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    51 HRC (FS)
    570 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分：Ni 0.5C 4Si 2.4B 3.1Fe 11.3Cr
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ：データなし
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分: Ni 0.55C 4Si 3.4B 2.7Fe 16Cr 3Mo 3Cu 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ:
    53 HRC (FS)
    700 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.55C 4Si 3.4B 2.7Fe 16Cr 3Mo 3Cu 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ:
    53 HRC (FS)
    700 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分：Ni 0.02C 3Si 2.9B 0.2Fe
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬さ：データなし
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 106/36 µm
化学成分: Ni 0.75C 4.3Si 3.2B 3.8Fe 14.8Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    61 HRC (FS)
    790 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.75C 4.3Si 3.2B 3.8Fe 14.8Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    61 HRC (FS)
    790 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分: Ni 0.9C 4.3Si 3.3B 4.2Fe 16.3Cr 
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    62 HRC (FS)
    820 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度: 125/45 µm
化学成分：Ni 0.6C 3.7Si 2.8B 3.5Fe 14.3Cr 9.5W
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    59 HRC (FS)
    720 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分：Ni 0.35C 3.1Si 1.7B 3.2Fe 9.9Cr
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度：
    37 HRC（FS）
    365 HV（FS）
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分：Ni 0.35C 3.1Si 1.7B 3.2Fe 9.9Cr
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度：
    37 HRC（FS）
    365 HV（FS）
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.58C 4.1Si 2.9B 4.4Fe 13.6Cr 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 
     
 

備考:

  • 硬度: 
    58 HRC (FS)
    710 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.58C 4.1Si 2.9B 4.4Fe 13.6Cr 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 
     
 

備考:

  • 硬度: 
    58 HRC (FS)
    710 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.55C 3.7Si 2.4B 4.1Fe 13.3Cr 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 
     
 

備考:

  • 硬度: 
    50 HRC (FS)
    550 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.55C 3.7Si 2.4B 4.1Fe 13.3Cr 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 
     
 

備考:

  • 硬度: 
    50 HRC (FS)
    550 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.60C 4.2Si 3.9B 4.6Fe 14Cr 2.5Mo 2.4Cu 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    58 HRC (FS)
    710 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiSF）盛金用金属粉

粒度 : -150/+325 メッシュ
化学成分: Ni 0.60C 4.2Si 3.9B 4.6Fe 14Cr 2.5Mo 2.4Cu 
粉末タイプ: 水アトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

     
 

備考:

  • 硬度: 
    58 HRC (FS)
    710 HV (FS)
  
     

 

ニッケル系（NiCr）盛金用金属粉

粒度: 106/20 µm
化学成分：Ni <0.15C 19.5Cr 0.7Mn 1Si
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 

ニッケル系（NiAl）盛金用金属粉

粒度: 106/20 µm
化学成分：Ni 5Al
粉末タイプ: ガスアトマイズ法
通常使用される成膜技術：フレーム溶射

 

盛金溶カーバイド混合粉末

Höganäs は、ニッケル自溶性（SF）合金とタングステン・カーバイドの幅広い種類のSurfit混合物粉末を提供します。

ニッケル自溶性合金の幅広いポートフォリオと、さまざまなタングステンカーバイドを組み合わせることで、用途の要件に合わせて調合できます。

  • ニッケル自溶性合金
  • Amperweld® タングステンカーバイド
    • Amperweld CTC - キャストタングステンカーバイド
    • Amperweld SCTC - 球状タングステンカーバイド
    • Amperweld MTC - Macroline タングステンカーバイド
  • Amperit® タングステンカーバイドコバルト
    • Amperit 519 WC-Co 88-12
    • Amperit 526 WC-Co 83-17

用途に合ったSurfit混合物粉末は、 Höganäs 営業担当者にお問い合わせください。

粒度: -
化学成分: - 
粉末タイプ: 混合
通常使用される成膜技術：フレーム溶射，HVOF，レーザークラッディング，粉体プラズマアーク溶接（PTA），粉末溶接

 

Surfit® 硬質相粉末

盛金溶カーバイド混合粉末

Höganäs は、ニッケル自溶性（SF）合金とタングステン・カーバイドの幅広い種類のSurfit混合物粉末を提供します。

ニッケル自溶性合金の幅広いポートフォリオと、さまざまなタングステンカーバイドを組み合わせることで、用途の要件に合わせて調合できます。

  • ニッケル自溶性合金
  • Amperweld® タングステンカーバイド
    • Amperweld CTC - キャストタングステンカーバイド
    • Amperweld SCTC - 球状タングステンカーバイド
    • Amperweld MTC - Macroline タングステンカーバイド
  • Amperit® タングステンカーバイドコバルト
    • Amperit 519 WC-Co 88-12
    • Amperit 526 WC-Co 83-17

用途に合ったSurfit混合物粉末は、 Höganäs 営業担当者にお問い合わせください。

粒度: -
化学成分: - 
粉末タイプ: 混合
通常使用される成膜技術：フレーム溶射，HVOF，レーザークラッディング，粉体プラズマアーク溶接（PTA），粉末溶接

 

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